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電鍍常用知識(shí)

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電鍍金屬沉積速度

來源:admin 發(fā)布時(shí)間:2018-10-30 次瀏覽

電鍍銀沉積速度

(電流效率為100%時(shí))

電鍍時(shí)間(min

0.2A/dm2

0.3 A/dm2

0.5 A/dm2

0.7 A/dm2

1.0A/dm2

1.5 A/dm2

1um

7.9

5.3

3.2

2.3

1.6

1.1

2um

15.8

10.5

6.3

4.5

3.2

2.1

3um

23.7

15.8

9.5

6.8

4.7

3.2

5um

39.5

26.4

15.8

11.3

7.9

5.3

7um

55.3

36.9

22.2

15.8

11.0

7.4

9um

71.1

47.6

28.4

20.4

14.2

9.5

10um

79.0

52.7

31.6

23.0

15.8

11.0

30um

237

158

95.0

68.0

47.0

32.0

50um

395

264

158

113.0

79.0

53.0

80um

632

422

253

181

126

84.0

100um

790

527

315

230

158

110

 

 

 

電鍍錫沉積速度

(電流效率為70%時(shí))

電鍍

時(shí)間(min

0.3 A/dm2

0.4

A/dm2

0.5 A/dm2

0.6

A/dm2

0.7

A/dm2

0.8

A/dm2

1.0

A/dm2

1.2

A/dm2

1.5 A/dm2

1um

18.9

14.2

11.3

9.4

8.1

7.1

5.7

4.7

3.8

2um

37.8

28.3

22.7

18.9

16.2

14.2

11.3

9.4

7.5

3um

56.6

42.5

34.0

28.3

24.3

21.3

17.0

14.1

11.3

4um

75.0

57.0

45.3

38.0

32.0

28.0

22.6

19.0

15.0

5um

94.0

71.0

57.0

47.0

40.0

35.4

28.3

23.6

18.8

6um

113

85.0

68.0

57.0

48.5

42.5

34.0

28.3

22.6

7um

132

99.0

79.0

66.0

57.0

49.5

39.6

33.0

26.4

8um

151

113

91.0

76.0

65.0

57.0

45.0

38.0

30.0

9um

170

127

102

85.0

73.0

64.0

51.0

43.0

34.0

 

 

 

 

電鍍鉻沉積速度

(電流效率為13%時(shí))

電鍍

時(shí)間(min

10 A/dm2

15

A/dm2

25 A/dm2

30

A/dm2

35

A/dm2

40

A/dm2

50

A/dm2

60

A/dm2

80

A/dm2

100 A/dm2

1um

9.81

6.53

3.92

3.26

2.80

2.45

1.96

1.63

1.22

0.98

2um

19.6

13.1

7.85

6.54

5.60

4.90

3.92

3.92

2.45

1.96

3um

29.4

19.6

11.8

9.81

8.41

7.35

5.88

4.90

3.68

2.94

4um

39.2

26.1

15.7

13.1

11.2

9.80

7.85

6.55

4.91

3.92

5um

49.1

32.7

19.6

16.3

14.0

12.3

9.81

8.15

6.13

4.91

6um

58.9

39.2

23.5

19.6

16.8

14.7

11.8

9.80

7.35

5.89

7um

68.7

45.8

27.5

22.9

19.6

17.2

13.7

11.5

8.58

6.87

8um

78.5

52.3

31.4

26.2

22.4

19.6

15.7

13.1

9.81

7.85

9um

88.3

58.8

35.3

29.4

25.2

22.1

17.7

14.7

11.0

8.83

10um

98.1

65.4

39.2

32.7

28.0

24.5

19.6

16.4

12.3

9.81

 

 

電鍍鎳沉積速度

(電流效率為95%時(shí))

電鍍

時(shí)間(min

0.5 A/dm2

0.8

A/dm2

1.0 A/dm2

1.2

A/dm2

1.5

A/dm2

2.0

A/dm2

2.5

A/dm2

3.0

A/dm2

4.0

A/dm2

1um

10.3

6.4

5.1

4.3

3.4

2.6

2.1

1.7

1.3

2um

20.5

12.8

10.2

8.6

6.8

5.1

4.1

3.4

2.6

3um

31

19.2

15.4

12.8

10.3

7.7

6.2

5.1

3.8

4um

41

25.6

20.5

17.1

13.7

10.3

8.2

6.8

5.1

5um

51

32

25.7

21.4

17.1

12.8

10.3

8.6

6.4

10um

103

64

51

43

34

25.6

20.5

17.1

12.8

15um

154

96

77

64

51

38

31

25.7

18.2

20um

205

128

103

86

68

51

41

34

25.6

25um

256

160

128

107

85

64

51

43

31

30um

308

192

154

128

103

77

62

51

38

40um

410

256

205

171

137

103

82

68

51

50um

513

321

257

214

171

128

103

86

64

 

 

 

 

 

不同電流效率的電鍍金沉積速度

                                                 單位:um/h

陰極電流效率

60

70

80

90

100

0.1A/dm2

2.3

2.7

3.0

3.4

3.8

0.2A/dm2

4.5

5.3

6.1

6.8

7.6

0.3A/dm2

6.8

8.0

9.1

10.3

11.4

0.4A/dm2

9.0

10.6

12.2

13.7

15.3

0.5A/dm2

11.3

13.3

15.2

17.1

19.0

0.6A/dm2

13.6

16.0

18.2

20.6

22.8

0.8A/dm2

18.0

21.2

24.4

27.4

30.6

1.0A/dm2

22.6

26.6

30.4

34.2

38.0

 

 

 

 

電鍍金屬沉積速度(圖1)